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在半導體制造工藝中,濕法刻蝕作為關鍵環節之一,其工藝液成分的精確控制直接影響器件加工的精度與良率。尤其是硝酸/氫氟酸混合蝕刻液體系,因酸性強、成分復雜、終點判斷困難,其濃度的準確測定一直是行業關注的焦點。
傳統手工滴定方式不僅操作繁瑣、重復性差,還易受人為因素干擾,難以滿足現代半導體制造對高精度質量控制的要求。為解決這一痛點,CT-Plus全自動電位滴定儀應運而生,以其出色的穩定性、高精度判定能力和智能化操作體驗,為混酸體系分析提供了可靠的技術手段。
技術優勢顯著,結果精準可靠
CT-Plus電位滴定儀采用高精度液路系統與智能判定算法,具備以下核心特點:
-高精度計量系統:配備20mL高精度計量管,最小加液體積可達10μL,確保滴定過程細膩可控;
-智能終點識別:依托微分終點判定模式(微分值可設),有效避免主觀誤判,準確捕捉滴定終點;
-高效穩定的操作流程:方法預設、自動攪拌、實時電位監控一體化完成,單樣測試僅需約2分鐘;
-良好的兼容性與適應性:可搭配pH102復合電極或銻電極,適用于強酸、混酸等復雜體系。
典型應用案例:硝酸/氫氟酸混合蝕刻液濃度分析
通過實際測試數據可見,CT-Plus在硝酸/氫氟酸雙組分同步測定中表現出色:
次序 | 樣品質量/g | 試劑消耗/mL | 測量結果/% | 均值/% |
1-1 | 0.5634 | 3.6071/6.4735 | 20.62%/5.20% | 20.72%/5.17% |
1-2 | 0.5440 | 3.5215/6.2491 | 20.84%/ 5.13% |
-樣品質量:約0.55–0.56g
-滴定劑:0.5111mol/L氫氧化鈉標準溶液
-消耗體積:硝酸終點約3.5–3.6mL,氫氟酸終點約6.2–6.5mL
-測定結果:硝酸濃度約20.72%,氫氟酸濃度約5.17%
-重復性良好,雙平行試驗結果偏差小,滿足產線質量控制要求。
為什么選擇CT-Plus?
1.方法合規、操作簡便:符合行業標準測試流程,無需復雜前處理,降低操作門檻;
2.數據可追溯、報告直觀:內置數據記錄和計算功能,可直接輸出含量百分比與平均值;
3.廣泛適用于復雜體系:不僅可用于硝酸/氫氟酸,還可擴展至其它混酸、堿液及氧化還原體系;
4.幫助企業提質增效:減少人工誤差,提高檢測一致性,是濕法刻蝕工藝控制的理想選擇。
無論是研發實驗室還是量產質檢環節,CT-Plus自動電位滴定儀均可提供快速、準確、穩定的酸濃度分析結果,協助企業實現工藝液管理的精細化、自動化與標準化。
CT-Plus——以精準數據,助您掌控每一個刻蝕細節。
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